一旦BSEC光源研究所在重生者的指引下，在ArF准分子激光器专利技术的基础上，研制成功ArFi准分子激光器和浸没式光刻系统，虽然浸没式光刻系统的专利技术属于BSEC，但根据双方签订的专利技术转让协定，ArFi准分子激光器的专利技术就属于GCA！

    GCA生产ArFi准分子激光器，购买BSEC的浸没式光刻系统专利技术，也能生产浸没式光刻机。

    早一日研制成功8英寸晶圆、350nm制程工艺的磁悬浮式双工作台系统，制程工艺最高就能提升到250nm，凭借提高35%的生产效率，Gikon光刻机的高端市场份额，夺回全球高端光刻机市场。

    峰回路转！

    艾德里安、汤普森的心情比魏建国、邓国辉还急迫。

    谈判和签订专利技术转让协定期间，孙健不在京城，艾德里安和魏建国都拿着他签署的代理书谈判，双方公司的律师在场监督，并在专利技术转让协定上签字证明。

    专利技术转让协定符合中美法律。

    巴T协定禁止8英寸晶圆和500nm制程工艺的半导体生产线出口中G，但没有禁止ArF准分子激光器出口，800nm制程工艺专利技术也不在禁令之中。

    美国人知道就是中G光刻机公司耗费巨资买到了ArF准分子激光器和800nm制程工艺专利技术，也生产不出6英寸晶圆和800nm制程工艺的半导体生产线。

    光刻机被称为半导体产业皇冠上的明珠，占一条半导体生产线总投资的1/3，除了光源、镜头和工作台三大核心技术之外，还需要光速矫正器、能量控制器、遮光器、能量探测器、掩膜版、掩膜台和光束形状设置，复杂程度超过大型航空发动机。

    就像一般飞机制造厂买到一台顶级航空发动机，也不能生产顶级飞机。

    国内光刻机半导体设备产业停滞了近十年，相关配套产业掉队太远，不是短时间用钱能买来的！

    BSEC如今拿到了ArF准分子激光器和800nm制程工艺专利技术，还有独创的磁悬浮式双工作台系统，既不能生产8英寸晶圆、800nm制程工艺的光刻机，也不能生产6英寸晶圆、800nm制程工艺的半导体生产线。

    BSEC还要去买先进的光学系统，进口6英寸晶圆、光刻胶、掩膜版等材料和设备，经过系统合成，就是能生产6英寸晶圆、800nm制程工艺的光刻机，只能算组装。

    前世ASML生产的EUV光刻机，据说90%的零部件都是从全球5000多家公司采购的，但EUV光源（收购了Cymer）和双工作台系统等关键技术是自己的，还参股了Zeiss SMT AG近三成的股权，将光刻机的三大核心技术掌握在手里，由于垄断经营，净利润高达五成，全球5000多家零部件公司排队供应零部件。

    只要搭上ASML这列豪华列车，零部件公司的股价就会暴涨。

    各国制定的《反垄断法》在ASML面前如同一张白纸！

    邓国辉拿到ArF准分子激光器专利技术，同光源研究所所长助理钱富强仔细研究一番后，如醍醐灌顶，豁然开朗，第二天就申请2000万元的研发资金，定购新的机器设备和材料，如今带领光源研究所在新的实验室内，按照GCA提供的技术图纸，消化吸收ArF准分子激光器专利技术，为研究ArFi准分子激光器和浸入式系统做准备。

    等机器设备和材料到位后，光源厂工程师和技师将按照光源研究所提供的技术图纸，生产ArF准分子激光器。

    BSEC由国内最顶尖的三家光刻机半导体设备研究所和三家配套工厂合并而成，集国内光刻机半导体设备的研发、生产、封装和检测等技术之大成，代表国内的最高水平，虽然在光刻机光源技术上落后Nikon一代、制程工落后艺四代，但与当年处于鼎盛时期的GCA一样，拥有芯片生产所需要的光刻机、硅片、热处理、刻蚀机、离子注入机和光刻胶等六大生产设备和材料的研发和生产能力。

    拥有半导体全产业链，不担心被西方K脖子，但大而不精，大而不强！

    这种尴尬的局面不是重生者愿意看到的，这是由国内光刻机半导体研发生产的现状